Sistemas adhesivos dentales: comparación de generaciones

La diferencia entre la estrategia etch-and-rinse y la self-etch, por qué el esmalte y la dentina requieren enfoques distintos, y qué han cambiado los sistemas adhesivos universales.

Los sistemas adhesivos esmalte-dentina se dividen en dos grandes familias estratégicas: el etch-and-rinse (o grabado total), que prevé el grabado completo de los tejidos duros con ácido ortofosfórico al 35-37%, seguido de un aclarado abundante y de la aplicación del adhesivo propiamente dicho; y el self-etch, en el que el grabado se realiza directamente mediante los monómeros ácidos contenidos en el propio adhesivo, sin una fase de aclarado separada. Como resume el investigador belga Bart Van Meerbeek en una conferencia dedicada al tema, no existe una estrategia objetivamente superior en términos absolutos: una está generalmente más indicada en el esmalte, la otra en la dentina.

En el esmalte, el grabado con ácido ortofosfórico crea una microretención mecánica profunda y bien definida, y la estrategia etch-and-rinse sigue ofreciendo, según distintas comparaciones directas, fuerzas de adhesión superiores respecto a la mayoría de los sistemas self-etch, especialmente los de un solo paso. En la dentina, en cambio, la desmineralización excesiva producida por el ácido fosfórico corre el riesgo de exponer las fibras de colágeno de tal modo que, si la dentina se seca en exceso antes de la aplicación del adhesivo, la trama colagénica colapsa impidiendo una infiltración resinosa adecuada —un error técnico no infrecuente en la práctica clínica diaria.

Los sistemas self-etch, en particular los de pH más suave (entre 2,0 y 2,7), no disuelven completamente el smear layer que ocluye los túbulos dentinarios tras la preparación de la cavidad, sino que lo incorporan dentro de la capa híbrida creando el llamado "smear layer modificado". Este enfoque reduce notablemente el riesgo de sensibilidad postoperatoria, una de las ventajas clínicas más apreciadas de la técnica self-etch respecto al etch-and-rinse, especialmente en restauraciones extensas o en pacientes con antecedentes de sensibilidad dentinaria.

La introducción de los sistemas adhesivos universales ha redefinido en parte esta clasificación tradicional en generaciones, proponiendo formulaciones capaces de utilizarse de forma intercambiable con ambas estrategias —grabado total selectivo en el esmalte combinado con self-etch en la dentina, o completamente self-etch, según la elección clínica del momento. Un elemento químico clave en muchas de estas formulaciones modernas es el monómero 10-MDP, capaz de unirse químicamente tanto a los tejidos dentales como a sustratos como la zirconia y las aleaciones metálicas, un aspecto que ha ampliado notablemente las indicaciones clínicas de los sistemas adhesivos universales más allá de la sola adhesión esmalte-dentina.

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